射频离子源：镀膜中几种普遍的离子源

尽管离子源的类型很多，但其目的无非是在线清理，以改善电镀表层的能量分布并增加反应气体的能量。射频离子源：离子源可以极大地改善膜与基底的结合强度，并且膜本身的硬度和耐磨性也将得到改善。如果是工具耐磨层，则厚度通常较大并且膜厚度的均匀性不高。可以使用具有大离子电流和高能级的离子源，例如霍尔离子源或阳极层离子源。

射频离子源：阳极层离子源类似于霍尔离子源。在环形（矩形或圆形）狭窄的缝隙中施加强磁场，在阳极的作用下，工作气体被电离并向工件喷射。阳极层离子源可以做得非常大和非常长，特别适合于电镀大型工件，例如建筑玻璃。阳极层离子源的离子源电流也很大。但是它的离子电流更发散，能级分布太宽。通常适用于大型工件，玻璃，磨损和装饰性工件。但这对于高级光学涂料而言并不过分。

射频离子源：考夫曼离子源是较早的离子源。属于网格离子源。首先，阴极在离子源腔中生成等离子体，然后通过两层或三层阳极格栅从等离子体室中提取离子。该离子源产生的离子具有较强的方向性和集中的离子能带宽，可广泛用于真空镀膜。缺点是阴极（通常是钨丝）会在反应气体中迅速燃烧掉。另外，离子流具有限制，这对于需要大离子流的用户可能不舒服。

在射频离子源:霍尔离子源中，阳极在强轴向磁场的作用下使工艺气体等离子体化。该轴向磁场的强烈不平衡使气体离子分离并形成离子束。由于轴向磁场太强，霍尔离子源的离子束需要补充电子来中和离子流。普遍的中和来源是钨丝（阴极）。霍尔离子源的特色是：

1简单耐用。

2离子电流几乎与气体流速成正比，因此可以获得较大的离子电流。

3钨丝通常会跨过出口，并且离子束的冲击会迅速侵蚀，特别是对于反应气体，通常需要在十小时内更换。而且钨丝也会有一定的污染。解决了钨丝的缺点。有更长寿命的中和器，例如小型空心阴极源。