光学镀膜设备的光学镀膜基本原理是什么？

　　光学镀膜设备是涂层是用物理或化学方法在材料表层镀上透明电解质膜或镀上金属膜，改变材料表层的反射和透射特性。

　　在可见光和红外波段范围内，大部分金属的反射率可以达到78%至98%，但不可高于98%。对于CO2激光器，如果使用铜、钼、硅、锗等制造反射镜，将锗、砷化镓、锌硒用作输出窗和透射光元素材料，或者将普通光玻璃用作反射镜、输出镜、透射光元素材料，则无法达到总反射镜的99%以上。应用时，输出镜的透射率不同，需要使用光学涂层方法。

　　CO2激光中红外波段常用的涂层材料有氟化钇、氟化钚、锗等。对于YAG激光灯近红外波段或可见光波段，常用的涂层材料有硫化锌、氟化镁、二氧化钛、氧化锆等。除了高半膜、增透膜之外，还可以在一个波长上增加反射，镀上投到另一个波长的特殊膜，例如激光倍频技术的分光膜等。

　　光学镀膜设备的光学镀膜基本原理是什么？

　　光的干涉在薄膜光学中有着广泛的应用。光学薄膜技术的常用方法是通过真空溅射在玻璃基板上镀薄膜，通常用于控制基板对入射光束的反射率和透射率，以满足各种需求。为了消除光学零件表层的反射损失，提高成像质量，镀一个或多个透明介质膜，称为防反射膜或防反射膜。随着激光技术的发展，对膜层反射率和透射率的要求发生了变化，促进了多层高反射膜和宽带增透膜的发展。为了多种应用需求，利用高反射膜制作偏振反射膜、彩色光谱膜、冷光膜、干涉滤光片等。

　　光学零件表层电镀后，光线在膜层反射和透射多次，形成多光束干涉，控制膜层的折射率和厚度，得到不同的强度分布。这是干涉电镀的基本原理。

　　光学镀膜设备的光学涂层材料是什么？

　　普遍的光学涂层材料有以下几种：

　　1、氟化镁

　　材料特性：无色四重奏晶界粉末，纯度高，制备光学镀膜可提高透光率，不产生衰变点。

　　2、二氧化硅

　　材料特征：无色透明晶体，熔点高，硬度高，化学稳定性好。纯度高，准备高质量的Si02电镀膜，蒸发状态好，不会出现崩溃点。根据使用要求，分为紫外线、红外线和可见光。

　　3、氧化锆

　　材料特性白色重质晶体状态具有高折射率、耐高温、化学性质稳定、纯度高，利用它制作高质量的氧化锆电镀膜，不会产生崩溃点。